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氧化亞硅升華爐
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氧化亞硅升華爐
氧化亞硅升華爐是一種真空設(shè)備,通常用于制備高純氧化亞硅材料,采用氧化亞硅為原料,通過(guò)升華法進(jìn)行生產(chǎn)。
使用溫度:
小于等于1400℃
真 空 度:
高真空
可用氣氛:
惰性氣氛(N2、CO2、Ar2等),危險(xiǎn)氣體(H2)
加工工藝:
氧化亞硅升華
適用單位:
適用高效、實(shí)驗(yàn)室、科研和生產(chǎn)企業(yè)
獲取報(bào)價(jià)
聯(lián)系我們: 199-4380-6602
設(shè)備
類型
氧化亞硅升華爐是一種真空設(shè)備,通常用于制備高純氧化亞硅材料,采用氧化亞硅為原料,通過(guò)升華法進(jìn)行生產(chǎn)。
氧化亞硅升華爐(實(shí)驗(yàn)型)
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